半導體照明新標準！黃光燈管如何提升製程穩定性？

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半導體照明新標準！黃光燈管如何提升製程穩定性？

規格介紹:

在半導體製程中，照明不僅影響作業環境的可見度，更直接關係到微影製程（Photolithography）的精準度與穩定性。傳統照明可能產生短波長光線，影響光阻（Photoresist）材料，導致曝光誤差與製程不良率提升。為了解決這一問題，黃光燈管成為半導體產業的標準光源，能夠有效過濾藍光與紫外線，確保精密製程的穩定性。

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詳細介紹:

黃光照明，提升半導體製程穩定度！

半導體產業對生產環境有著極為嚴格的要求，從溫濕度控制到空氣潔淨度，每一個環節都影響著製程的穩定性。然而，光源的選擇往往是許多廠商容易忽略的關鍵因素。在光刻與微影製程中，光阻材料對於短波長光（如藍光與紫外線）極為敏感，若未妥善管控，可能導致曝光錯誤、線寬變形，進而影響晶片品質。

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為了解決這個問題，半導體廠區普遍採用「黃光區」作為關鍵製程區域，並配置特殊的黃光燈管，確保工作環境內僅有 590nm 以上的長波長黃光，不會影響光阻感應，從而提升製程精準度與穩定性。

為何半導體製程需要黃光燈管？

在半導體廠房內，微影製程（Photolithography）是極為關鍵的步驟，而光阻（Photoresist）材料對於短波長的光線極為敏感，若受到藍光或紫外光干擾，可能導致曝光不均，影響線路精細度。因此，使用特定波長的黃光照明（590nm 以上），可有效避免光阻受到不必要的干擾，確保製程穩定。

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巴斯夫 LED T8 黃光燈管 便是針對此需求設計的專業照明設備，除了提供高效光輸出與長壽命外，還能顯著降低藍光干擾，成為半導體產業的照明標準之一。接下來，我們將深入探討黃光燈管在半導體製程中的應用優勢，以及如何幫助提升產線穩定性與節能效率。

圖片來源：軒豊

巴斯夫LED T8 黃光燈管的核心技術

巴斯夫LED T8 黃光燈管專為 半導體廠房與精密製造環境 研發，具備以下特點：

✅ 高效光轉換技術，確保無製程風險

完全過濾 530nm 以下藍綠光，有效避免光阻材料受到短波長干擾，確保半導體微影製程穩定性。
低藍光干擾，進一步提升曝光精準度，確保生產線高良率。

✅ 市場領先的高光效技術，節能更高效

採用軒豊客製化高光效 LED燈，穩定輸出黃光，提高生產效率。
專利光轉換技術，發光效率高達 167 lm/W，大幅提升能效。
僅需傳統燈具 40% 的電力，即可達到相同亮度，顯著降低能源消耗。

✅ 舒適穩定的照明品質，降低作業疲勞

無頻閃技術，避免視覺疲勞，提高精密作業環境的舒適性。
色溫與亮度接近傳統黃光燈管，減少作業人員適應期，確保視覺一致性。
廣角發光設計，光線均勻分佈，提升作業環境照明品質。

✅ 輕巧耐用，靈活應用於各種環境

PC 燈罩輕盈耐用，不易破裂損壞，適合無塵室等高標準環境。
適用於既有燈具，可快速安裝，無需額外改裝，維護更便利。
多尺寸選擇：提供 3.5 呎、4 呎、5 呎，適用於不同作業環境，滿足多元需求。

圖片來源：台灣積體電路製造股份有限公司

節能減碳，降低企業運營成本

相較於傳統螢光燈管，巴斯夫LED T8 黃光燈管的能耗大幅降低：
- 🔶 13W 取代傳統 36W 燈管，減少能源消耗高達 65%。
- 🔶 LED 壽命長達 50,000 小時，減少燈具更換頻率，降低維護成本。
- 🔶 即開即亮，無需等待預熱，提高作業效率。
對於需要長時間運行照明的半導體廠房來說，這不僅降低了電費支出，更響應了節能減碳的永續發展趨勢。